半導体製造の歩留まり向上に必要なクリーン化技術とは～半導体製造を支えるインフラ・ユーティリティー技術を中心に～
■開催日時 7月26日（金）15:00-17:30 ※通常より30分早く開始いたします。
■オンライン配信／現地出席も可（先着10名様）≪参加無料≫
■プログラム
15:00 講演 未来科学技術共同研究センター 教授 白井 泰雪 先生
半導体製造の歩留まり向上に必要なクリーン化技術とは
―半導体製造を支えるインフラ・ユーティリティー技術を中心に―
（講演の合間と終了後に質疑応答）
16:30 ラボツアー（クリーンルーム見学）
17:30 終了
■お申込み
下記メール宛またはwebサイトよりお願いいたします。
オンライン視聴をお申込みいただいた方には、7月25日（木）（講演前日）に配信用URLをご連絡いたします。（お手数ですが、前日までにURLが届かなかった場合は、ご一報下さい。）
・メールによるお申込み： mirai@ml.niche.tohoku.ac.jp
・ウェブからのお申込み： https://www.niche.tohoku.ac.jp/opseminar.html
■締切 7月24日（水）までにお願いいたします。
