第29回は、堀邊英夫特任教授（客員）の研究についてご紹介
半導体の高性能化を担うフォトレジストとは－半導体フォトレジストの開発現況と半導体産業の動向－

■開催日時
2025年1月7日（火）14:00-15:30

■オンライン配信／現地出席（参加無料）

■プログラム
14:00　講演
　　　　大阪公立大学大学院工学研究科　教授
　　　　東北大学未来科学技術共同研究センター
　　　　特任教授（客員）　　堀邊　英夫
　　　講演題目　　　　
　　　　半導体の高性能化を担うフォトレジストとは
　　　　 ―半導体フォトレジストの開発現況と半導体産業の動向―
　　　　（講演の合間と終了後に質疑応答）
15:30　終了

■お申込み
お申込みは、下記メール宛またはwebサイトよりお願い申し上げます。
オンライン視聴をお申込みいただいた方には、
1月6日（月）午後（講演前日）に配信用URLをご連絡いたします。
（お手数ですが、前日までにURLが届かなかった場合は、ご一報下さい。）

メールによるお申込み：　mirai@ml.niche.tohoku.ac.jp
ウェブからのお申込み：　https://www.niche.tohoku.ac.jp/opseminar.html

■締切
1月5日（日）までにお願いいたします。

※　2024年12月28日～2025年1月5日の間にお申込みいただいた場合、返信が遅くなりますが何卒ご容赦ください。